HORIBA真空紫外椭偏仪UVISEL 2 VUV概述

专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；独YI无二的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。

重点应用领域

• 超薄膜

• 157nm 光刻新材料

• 有机材料、高分子材料

• 高k 材料：HfO₂、Al2O₃、TiO₂、HfxAlyOz

• 抗反射涂层

• 半导体和介电材料电子跃迁

• MgF₂、CaF₂、LaF₃

HORIBA真空紫外椭偏仪UVISEL 2 VUV特点

★ 50KHz 高频PEM 相位调制技术

★ 45 秒内完成充氮气

★ 2 分钟内完成样品室抽真空

★ 8 分钟内完成光谱全谱范围内测量

★ 两种工作模式：氮气清洗结合抽

★ 真空、连续氮气清洗

★ 光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm